クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です。

高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。

ビーム径：1.6nmΦ以下
最小線幅：7nm以下
加速電圧：130kV, 110kV, 90kV
ステージ：8インチ対応

研究開発等様々な用途に合わせたAcademic and R&Dモデル。通信用半導体レーザーのDFB-LD生産用に最適なProductionモデル。微細加工性とスループットのバランスがとれた、50kV加速電圧を採用した主力製品です。

ビーム径：2nmΦ以下 (for Academic and R&D) 
               3nmΦ以下 (for Production) 
最小線幅：10nm以下 (for Academic and R&D) 
               20nm以下 (for Production) 
加速電圧：50kV, 30kV
ステージ：4インチ, 6インチ, 8インチ対応

クレステックでは長年のノウハウを活かし、研究開発用の単品加工から、生産用の複数枚継続加工まで、お客様のご要望にお応えすべく、受託加工有償サービスを提供いたします。 ご希望の描画パターンレイアウト図を用意していただき、お気軽にご相談ください。近年は通信用半導体レーザー（DFB-LD）向けグレーティングパターンの依頼が多くなっております。

お客様の最先端新規デバイスの開発をEB リソグラフィによる超微細加工でサポートし、共同で新型装置の開発、新機能の開発をいたします。 お客様のニーズを第一に考えてお応えいたします。